説明

技術的なパラメーター

R05200タンタルプレートの利点

R05200は、ASTM B708標準を満たし、次のコア利点を提供する純粋なタンタル材料（UNS R05200）です。

1.優れた腐食抵抗

高温および強酸（塩酸、硫酸、硝酸など）および塩化物環境で優れた性能を発揮し、その腐食抵抗はチタンとハステロイのそれを超えています.}

極端な化学環境に適したAqua regia腐食に耐性（E {. g .濃縮硫酸蒸発器）.

2.生体適合性

ISO 10993認定、非毒性、非アレルゲン性、整形外科インプラントで広く使用されている（E . g .骨爪、頭蓋骨修理プレート）.}

3.高温の安定性

2996度の融点では、600度で長時間使用でき、2000度のプラズマ環境に耐えることができます（E . g .ロケットノズルライニング）

4.優れた物理的特性

高出力コンデンサの高熱伝導率（57 . 5 w/m・k）および電気伝導率（抵抗率13.5μΩ・cm）。

低係数の熱膨張係数（6 . 5×10⁻⁶/k）は、高温環境で寸法の安定性を保証します。

5.適応性の処理

コールドローリング後の最大25％の伸長は、複雑なスタンピングを可能にします（e . g .薄壁原子炉内ライニング）.

R05200タンタルプレートの処理技術

1.コールドフォーミング

ローリング：マルチパスコールドローリング（パスあたり30％以下の変形）、中間アニーリング（1000-1200度 /真空）.

スタンピング：ダイギャップは、エッジの割れを避けるために、プレートの厚さの5-8％で制御されます.

2.溶接

電子ビーム溶接：真空環境（1×10⁻³Pa以下）、電力密度3×10⁴W/cm²、アスペクト比20：1.

TIG溶接：Argon純度は99 . 999％以上、Argon保護が背面に必要であり、R05200マッチングコンポーネントはワイヤの溶接に使用されます。

3.熱処理

再結晶アニーリング：1200度×1H（5×10⁻³Pa以下の真空）、穀物サイズ制御ASTMグレード6-8.

4.機械加工

ツール：rake角10-15程度と後角6-8程度.のダイヤモンドコーティング炭化物

パラメーター：30m/min以下の線形速度、フィード0.05-0.1 mm/r、エマルジョン冷却（pHニュートラル）.

R05200タンタルプレート典型的なアプリケーションフィールドとケース

アプリケーションフィールド	特定のアプリケーション	パフォーマンス要件	ケース仕様
化学機器	原子炉の裏地、コンデンサーチューブ	160度濃縮硫酸耐性耐性	THK 3MMX2000×1000mm
エレクトロニクス業界	高特異的容量コンデンサアノード	表面粗さは0.2μm以下	0.1mmタンタル箔、静電容量100、000μf/g
医療着床	頭蓋骨修理プレート、血管ステント	ASTM F560	THK 1.5mm、30％気孔率多孔質構造
航空宇宙産業	ロケットノズルの喉の裏地、衛星サーマルコントロールコンポーネント	3000度の瞬間的な高温抵抗	C103コーティング複合構造、THK 5mm
真空機器	スパッタリングターゲット、単結晶炉ヒーター	99.95％以上の純度、粒度は50μm以下	φ300mmターゲット、16.6g/cm³